什么是溅射(Sputtering)？

用喷溅的方法把一层又一层的原子喷射到另一层材料表面上，从而形成一层非常精细的粒子原子尺度，但也往往是缓慢的，最好用于小表面积。应用包括生物样品在扫描电子显微镜（SEM）中成像的涂层，半导体工业中的薄膜沉积，以及微型电...

用喷溅的方法把一层又一层的原子喷射到另一层材料表面上，从而形成一层非常精细的粒子原子尺度，但也往往是缓慢的，最好用于小表面积。应用包括生物样品在扫描电子显微镜（SEM）中成像的涂层，半导体工业中的薄膜沉积，以及微型电子的沉积涂层。医学中的纳米技术工业，计算机科学和材料科学研究通常依赖于溅射沉积来设计纳米级（十亿分之一米）的新型复合材料和器件。科学家用烧杯进行溅射，常用的方法有气体流量法、反应式溅射法、反应式溅射法、反应式溅射法、反应式溅射法、反应式溅射法、反应式溅射法、反应式溅射法、反应式溅射法、反应式溅射法、反应式溅射法，离子束和离子辅助溅射也被广泛应用，因为离子态的化学物质种类繁多，磁控溅射又分为直流电（DC）、交流（AC）和交流（AC），以及射频（RF）应用。磁控溅射的工作原理是在源材料周围放置一个磁场，用于在靶材上沉积层。然后在腔室中填充惰性气体，如氩。由于源材料带有交流电或直流电，喷射出的电子被困在磁场中，最终与腔室中的氩气体相互作用，产生由氩和源材料组成的高能离子，这些离子随后逃离磁场，冲击靶材料，在其表面缓慢沉积一层精细的源材料在这种情况下，射频溅射是通过快速改变靶和源之间的偏压，在绝缘靶上沉积多种氧化物薄膜的方法。离子束溅射不需要磁场就可以工作。从源材料中喷出的离子与来自次级的电子相互作用因此，他们用中性原子轰击靶材。这使得离子溅射系统能够覆盖导电和绝缘的靶材和零件，例如计算机硬盘驱动器的薄膜磁头。反应溅射机依赖于目标材料和气体之间的化学反应，这些气体被泵入真空室。直接控制沉积层是通过改变真空室中气体的压力和数量来实现的。薄膜用于光学元件和太阳能电池通常在反应溅射中，由于化学计量或化学反应速率，可以精确控制。

发表于 2020-09-17 20:44
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分类：科学教育

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