离子镀是一种将一种物质(通常是金属或化合物)的涂层沉积在目标零件或表面上的技术。涂层材料通过电弧蒸发和电离,然后高速向目标推进,电离粒子的电荷使其与目标表面结合目标。这项技术有时被称为物理气相沉积。通常在真空...
离子镀是一种将一种物质(通常是金属或化合物)的涂层沉积在目标零件或表面上的技术。涂层材料通过电弧蒸发和电离,然后高速向目标推进,电离粒子的电荷使其与目标表面结合目标。这项技术有时被称为物理气相沉积。通常在真空室或惰性气体环境中进行。
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使用钻孔材料进行离子镀的人首先要进行处理,去除任何异物并清洁所有表面。这项工作是在与电镀是要进行的,被称为溅射。溅射的过程与随后的电镀过程相似,但靶材被另一种材料的离子轰击,例如氩气,它会剥去所有杂质的表面,而不是粘在靶材上。表面必须完全清洁,以确保涂层材料的正确粘合。一旦靶材经过处理并准备好进行涂层,离子镀过程开始。涂层材料通过电弧电流蒸发,电弧电流利用极低的电压和高电流流。这不仅使涂层材料蒸发,还使因相同电荷而相互排斥的单个原子离子化。然后将蒸汽推向目标,它被赋予一个微弱的反向电荷来吸引电离的涂层材料。这使得涂层的汽化离子与制备的表面结合。离子镀的基本技术可以通过多种方式进行改进。通过将某些气体和其他汽化离子引入封闭环境中,可以将一种物质的汽化离子与其他离子结合,形成一种新的化合物,然后与目标结合将不同类型的材料结合在一起可以得到各种各样的涂层。离子镀技术应用的涂层通常非常薄而且非常均匀。这些涂层的厚度可以达到微米级。均匀地应用这种薄涂层的能力使得这种技术对不规则形状的零件以及使用其他技术无法应用的涂层,如电镀。