什么是纳米光刻(Nanolithography)?

纳米光刻是一个术语,用来描述制造难以置信的小结构的许多技术。所涉及的尺寸大约是几十纳米(nm)。纳米是十亿分之一米,比一根头发的宽度小得多。之所以使用"光刻"一词,是因为图案生成的方法基本上与书写相同,只是规模要小得...
纳米光刻是一个术语,用来描述制造难以置信的小结构的许多技术。所涉及的尺寸大约是几十纳米(nm)。纳米是十亿分之一米,比一根头发的宽度小得多。之所以使用"光刻"一词,是因为图案生成的方法基本上与书写相同,只是规模要小得多。纳米光刻可用于制造微芯片。纳米光刻是一种常见的方法,特别用于微芯片,被称为光刻技术。这种技术是一种并行的纳米光刻技术,在这种技术中,整个表面在一瞬间就被画上。光刻技术在尺寸上受到限制,但是,如果使用的光的波长太小,透镜就会完全吸收光。这意味着光刻技术不能达到某些替代技术的超精细尺寸。一种比光刻技术更小尺寸的技术是电子束光刻技术。利用电子束逐纳米地绘制图案,可以实现难以置信的小尺寸(约20nm)。然而,电子束光刻比光刻更昂贵、更耗时,这使得它很难在纳米光刻的工业应用中销售。由于电子束光刻的功能更像一个点阵打印机而不是一张闪光照片,这项工作使用光刻技术需要5分钟,而电子束光刻则需要5个多小时。新的纳米光刻技术正在不断地研究和发展,导致可能的尺寸越来越小。例如,极端紫外线光刻技术可以使用波长为13.5纳米的光虽然这一新领域仍存在障碍,但它有望实现远低于当前行业标准的尺寸。其他纳米光刻技术包括蘸笔纳米光刻技术,其中一个小尖端用于在表面沉积分子。蘸笔纳米光刻可以实现非常小的尺寸,但目前无法实现纳米光刻技术研究的资金来自许多地方,包括私人学术界、着眼于下一代纳米技术的未来派公司,而老牌电脑晶片制造商则希望将晶片缩小至远低于目前的尺寸。随着工业界对奈米科技的兴趣与日俱增,资助与研究无疑会在奈米光刻技术领域扩大,导致更熟练的技术,甚至更低的尺寸限制。
  • 发表于 2020-09-07 10:53
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  • 分类:科学教育

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