什么是离子植入物(Ion Implant)?

离子注入在许多不同的行业都有应用,尤其是在半导体制造方面。离子注入是一种特殊元素的离子,为了改变材料的电学或表面性质而放置在其周围的材料中。一些可用于离子注入的常见元素有磷、砷、硼,还有氮。 有许多安全协议...
离子注入在许多不同的行业都有应用,尤其是在半导体制造方面。离子注入是一种特殊元素的离子,为了改变材料的电学或表面性质而放置在其周围的材料中。一些可用于离子注入的常见元素有磷、砷、硼,还有氮。有许多安全协议控制硅晶圆的掺杂过程。离子注入的科学从20世纪50年代就已为人所知,但直到20世纪70年代才得到广泛应用。一种叫做质量分离器的机器用于将离子注入目标材料中,它在科学上被称为"基质"。在典型的装置中,离子在源点产生,然后加速流向分离磁铁,它有效地将离子集中并指向目的地。离子由原子或分子组成,电子数比通常高或低,使它们更具化学活性。当这些离子到达基底时,它们在停止之前与原子和分子发生碰撞。这种碰撞可能涉及原子核或电子。这些碰撞造成的损伤会改变基底的电学性质。在许多情况下,离子植入物会影响基板的导电能力。一种叫做掺杂的技术是使用离子植入物的主要目的。这通常在集成电路的生产中进行,实际上,像计算机中的那些现代电路是不可能没有离子注入的。掺杂基本上是离子注入的另一个名字,专门用于电路制造。掺杂要求离子从非常纯净的气体中产生,这有时是危险的正因为如此,有许多安全协议控制着硅晶圆的掺杂过程。气体的粒子在自动质量分离器中被加速并导向硅衬底。自动化减少了安全问题,并且每分钟可以用这种方式掺杂几个电路。离子注入也可用于制造钢制工具。在这种情况下,离子注入的目的是改变钢的表面特性,使其更耐裂纹。这种变化是由于注入而使表面轻微压缩引起的。离子注入所带来的化学变化也可以防止腐蚀。这一技术也可以使用设计假肢装置,如人工关节,赋予它们相似的性能。
  • 发表于 2020-09-05 09:28
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  • 分类:文化艺术

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